RTP/RTCVD
AS-One
AS-One este un sistem RTP flexibil care poate fi utilizat pentru dezvoltarea proceselor termice rapide
de depunere și a proceselor CVD termice.
- Recoacere termică rapidă (RTA)
- Recoacerea materialelor implantate ionic
- Recoacere pentru realizarea de contacte ohmice (III-V și SiC)
- Oxidare termică rapidă (RTO)
- Nitrurare termică rapidă (RTN)
- Selenizare (celule solare CIGS)
- RTCVD grafen și hBN
Cere oferta
Sistemul AS-One este disponibil în două variante de dimensiuni pentru reactor, pentru realizarea de substraturi de până la 100 mm (4”), respectiv 150 mm (6”) în diametru. Aparatele sunt prevăzute standard cu pirometru și termocuplu pentru controlul temperaturii.
Camera este proiectată astfel încât să permită acces nerestricționat pentru încărcarea și extragerea substraturilor, precum și pentru curățare.
- Dimensiuni substrat: până la 100 mm (4”) în diametru pentru AS-One 100
până la 150 mm (6”) în diametru pentru AS-One 150 substraturi mici, cu utilizarea de susceptori
- Camera: inox, cu tehnologie cu pereți reci
- Domeniul de temperatură: versiunea standard: până la 1250 °C/1200 °C
(AS-One 100/AS-One 150) versiunea pentru temperatură înaltă: până la 1450 °C/1300 °C
- Controlul temperaturii: termocuplu și pirometru, controler digital PID/RTP
- Vid și gaz: până la 5 circuite de gaz, cu debitmetre masice, 1 linie de purjare, valvă și indicator de vid
- Control complet de la PC cu software compatibil Windows